ITO靶材的核心用途是在磁控濺射工藝中作為“濺射源”。磁控濺射是一種常見的薄膜沉積技術(shù)，通過高能離子轟擊靶材表面，使靶材原子被“敲擊”出來，終沉積在基板上，形成一層均勻的ITO薄膜。這層薄膜厚度通常在幾十到幾百納米之間，卻能同時實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電和透光的功能。
冷等靜壓法
工藝流程：將混合粉末裝入柔性模具，在室溫下通過高壓（100-300兆帕）壓制成型，隨后在較低溫度下燒結(jié)固化。
優(yōu)點(diǎn)：工藝相對簡單，生產(chǎn)成本較低，適合小批量或定制化生產(chǎn)。
缺點(diǎn)：靶材密度和均勻性稍遜，可能在高功率濺射中表現(xiàn)不夠穩(wěn)定。
適用場景：中低端電子產(chǎn)品或?qū)嶒?yàn)室研發(fā)用靶材。
這兩種方法各有千秋，制造商需要根據(jù)具體需求權(quán)衡成本與性能。
制備完成后，ITO靶材在實(shí)際應(yīng)用中還會遇到一些問題：
濺射不均勻：如果靶材內(nèi)部存在微小缺陷或成分偏差，濺射過程中可能出現(xiàn)局部過熱，導(dǎo)致薄膜厚度不一致。
靶材破裂：在高功率濺射時，靶材承受的熱應(yīng)力可能超出其極限，造成破裂，進(jìn)而影響生產(chǎn)線的連續(xù)性。
資源限制：ITO靶材依賴銦這種稀有金屬，而銦的全球儲量有限，價格波動較大。這不僅推高了成本，也促使業(yè)界尋找替代方案。
在智能手機(jī)、平板電腦、超清電視的光滑屏幕背后，ITO靶材（氧化銦錫）是賦予其透明導(dǎo)電魔力的核心材料。作為ITO靶材的關(guān)鍵成分，銦（In）的穩(wěn)定供應(yīng)直接關(guān)系到全球萬億級顯示產(chǎn)業(yè)的命脈。然而，這種稀散金屬的地緣分布不均（中國儲量占全球70%以上）和原生礦產(chǎn)的有限性，使得銦的回收再利用不再是環(huán)保課題，更成為保障產(chǎn)業(yè)、實(shí)現(xiàn)供應(yīng)鏈韌性的“閉環(huán)”革命。
