ITO靶材的核心用途是在磁控濺射工藝中作為“濺射源”。磁控濺射是一種常見的薄膜沉積技術，通過高能離子轟擊靶材表面，使靶材原子被“敲擊”出來，終沉積在基板上，形成一層均勻的ITO薄膜。這層薄膜厚度通常在幾十到幾百納米之間，卻能同時實現導電和透光的功能。
目前，ITO靶材的制備主要有兩種常見方法：熱壓燒結法和冷等靜壓法。
熱壓燒結法
工藝流程：將氧化銦和氧化錫粉末按比例混合后，放入模具，在高溫（1000-1500°C）和高壓（幾十到幾百兆帕）下壓制成型。高溫使粉末顆粒熔融結合，形成致密的靶材結構。
優(yōu)點：這種方法制備的靶材密度接近理論值（通常超過99%），晶粒分布均勻，適合高精度鍍膜需求。
缺點：設備復雜，能耗高，生產成本較高。
適用場景：高端電子產品，如智能手機、平板電腦的顯示屏制造。
閉環(huán)之困：損耗與機遇并存
ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產生。過去，這些價值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。
技術破局：從粗放走向精純
現代銦回收工藝已形成精細鏈條：
預處理與富集：機械破碎液晶屏 → 高溫焚燒去除有機物 → 酸溶浸出（常用硫酸/鹽酸），將銦等金屬轉入溶液。
深度分離提純（核心技術）：
溶劑萃取法：利用特定有機溶劑（如P204）選擇性“捕獲”溶液中的銦離子，實現與鐵、鋅、錫等雜質的深度分離，富集倍數可達千倍。
離子交換法：功能樹脂吸附銦離子，適用于低濃度溶液提純。
電解沉積：對富銦溶液通電，在陰極析出粗銦。
高純精煉：對粗銦進行真空蒸餾、區(qū)域熔煉等，去除微量雜質（如鎘、鉛），產出純度高達99.99%（4N）以上的精銦，滿足高端ITO靶材要求。
綠色升級：循環(huán)經濟的必由之路
相比開采原生礦（主要來自鋅冶煉副產品），從電子垃圾中回收銦具有顯著優(yōu)勢：
資源保障：1噸廢棄液晶面板可提取200-300克銦，品位遠超原礦。
節(jié)能減排：回收能耗僅為原生銦生產的1/3，大幅降低碳排放。
環(huán)境友好：減少電子垃圾填埋污染，避免采礦生態(tài)破壞。
經濟可行：銦價高企（曾超1000美元/公斤）賦予回收強勁動力。
