凈室的定義為：將空間范圍內(nèi)之空氣中的微塵粒子等污染物排除，而得到一個相當潔凈的環(huán)境。亦即：這個環(huán)境中的微塵粒子相當少，稱之為凈室。凈室被廣泛地應用在對環(huán)境污染特別敏感的行業(yè)，例如半導體生產(chǎn)、生化技術(shù)、生物技術(shù)、精密機械、制藥、和醫(yī)院內(nèi)的手術(shù)室等行業(yè)等，其中以半導體業(yè)其對室內(nèi)之溫濕度、潔凈度要求尤其嚴格、故其必需控制在某一個需求范圍內(nèi)，才不會對制程產(chǎn)生影響。作為生產(chǎn)設施，凈室可以占據(jù)廠房很多位置。
溫濕度要求比一般空調(diào)高一般空調(diào)要求在18°C~26 °C之間，相對濕度則在40%~65%之間；凈室空調(diào)必須控制在22°C~24 °C之間，相對濕度則在45%~55%。
恒溫恒濕控制由于半導體制程對溫濕度變化的大小極為敏感，故在凈室大部分區(qū)域必須控制在± 1°C及± 3%之內(nèi)。
本標準適用于：
一、設計裝配式或部分裝配式的鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)和混合結(jié)構(gòu)廠房；
二、編制廠房建筑構(gòu)配件標準設計圖集。
注：①設計鋼結(jié)構(gòu)廠房、受條件限制的改（擴）建廠房、現(xiàn)澆式鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)廠房、工藝對廠房有特殊要求的廠房或按本標準設計在技術(shù)經(jīng)濟上會產(chǎn)生顯著不合理的廠房，可不執(zhí)行本標準的某些規(guī)定；②采用新技術(shù)、新結(jié)構(gòu)和新材料的廠房，可不受本標準某些規(guī)定的限制。
在一個建設場地內(nèi)，確定各廠房設計方案時，宜使構(gòu)配件的類型統(tǒng)一。
在技術(shù)經(jīng)濟合理的基礎上，廠房的體形應力求簡單，避免設置縱橫跨和多跨廠房中的高度差。
在編制廠房建筑構(gòu)配件標準設計圖集時，應使用途相同的構(gòu)配件具有限度的互換性。
廠房建筑設計除應符合本標準的有關(guān)規(guī)定外，還應符合現(xiàn)行有關(guān)國家標準的規(guī)定。
